【李家同、侯冠維】為台灣加油打氣專欄(248)我國的塗佈機技術

張貼日期:2023/4/27

光阻塗佈是半導體製程中一個非常重要的步驟,我們經常要在晶圓上塗佈一層光阻劑,其厚度最薄可能是100奈米(1奈米=十億分之一米),最厚可能是50微米(1微米=百萬分之一米)。塗佈機是一個專門進行光阻塗佈的設備,圖一是塗佈機的示意圖。

圖一

噴頭會將光阻劑噴灑到晶圓上,下方的馬達會推動晶圓進行旋轉,由於離心力的影響,光阻劑會逐漸向外擴散至整片晶圓。光阻塗佈是相當不容易的,至少要注意以下幾點:

 

1. 光阻厚度的均勻度

 

在精密的半導體製程中,這層光阻的厚度必須非常均勻。在一片12吋晶圓(直徑30公分)上,要確保每一個位置的光阻厚度都相同,這是不容易做到的。進行塗佈時,需要考慮在不同溫度、濕度、氣壓下光阻揮發的速度,也要考慮光阻的黏度,光阻在晶圓表面的附著力、旋轉的轉速等等。

 

為了精準控制旋轉的速度,塗佈機中需要使用非常精準的中空馬達,能夠精確的控制馬達轉速及加速度並且具備優異的抗雜訊能力,在馬達線路設計時就考量電磁干擾的影響,並且在線路中具有濾波器可以濾除雜訊。可惜的是,我國目前還無法製造出可在塗佈機中使用的馬達。

 

2. 避免光阻回濺

 

在進行旋轉塗佈時,由於離心力的關係,光阻會從晶圓中央往外擴散,過程中某些光阻可能會碰到設備外罩而回濺到晶圓上,這些回濺的光阻可能會在該位置產生缺陷,造成該位置的晶片變成報廢品,請看圖二。


圖二

為了解決光阻回濺的問題,外罩的形狀需要特別的設計,在塗佈機中需要有特別設計的抽風系統。這個抽風系統會在晶圓上方產生特殊的氣流場,以避免光阻回濺。

 

3. 避免光阻劑中產生氣泡

 

由於光阻劑是透過泵浦輸送到塗佈機中,在輸送過程中如果發生劇烈的氣壓變化,會造成溶在光阻劑中的氣體被釋放出來。就好像我們打開汽水瓶時,由於氣壓劇烈下降,本來溶在汽水中的氣體會轉變成大量的氣泡湧出。

 

這些氣泡也會跟著光阻劑一起跑到晶圓上,造成光阻中有很多空洞,如圖三所示。這些空洞將來可能會造成電路中的缺陷,使該位置的晶片成為報廢品。


圖三

為了避免光阻劑中的氣體被釋放出來,我國的塗佈機公司設計了特殊的光阻劑推進系統,可以減輕光阻輸送過程中的壓力變化,避免氣泡的產生。

 

4. 維持均勻的溫度分佈

 

光阻塗佈完成後,需要進行烘乾。由於光阻劑被烘乾時體積會縮小,在晶圓上任何位置的烘乾速度一定要非常均勻,否則會在光阻中產生缺陷。

 

在圖一中可以看到,晶圓的下方有一個熱盤,是用來對晶圓加熱用的。為了維持均勻的烘乾速度,熱盤的溫度分佈必須非常均勻。

 

熱盤中有許多的電阻絲,當電阻絲通電時就會發熱。我國的塗佈機公司已經有能力自行設計與製造這個熱盤。工程師必須懂得熱傳學,能夠將電阻絲恰當的分佈在熱盤中,並且設計良好的熱對流系統。目前我國的熱盤設計已經可以使整片晶圓上的溫度誤差小於攝氏±0.5度。

 

希望大家知道,精密設備中是有所謂的關鍵零組件的,這些關鍵零組件的價格通常都非常高,有些甚至佔了整架設備大部份的成本。若我們無法自行生產這些關鍵零組件,產品的利潤就很難提高了,如果外國不賣給我們這些關鍵零組件,我們也就無法發展高規格的產品。

 

在圖一中可以看到光阻劑是透過一個噴頭到達晶圓上,希望各位知道,就連這個噴頭的管子都是經過特別設計的,這個管子必須使光阻劑不會發生沾黏。

 

因為我國的設備公司和工程師們願意長時間的投入研究與開發,終於自行設計與製造出精密的塗佈機設備,實在值得大家給予他們鼓勵。也希望工學院的學生知道,要做出一個高級的設備,必須注意相當多的細節。以這個設備為例,輸送光阻劑的管子就是經過特別設計的,必須在自己的工廠內製造,所有的技術細節都絕對保密。工程師絕對不能空有學問而對一些工業技術毫不了解。